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上海微电子披露:2021-2022 年交付第一台 28nm 工艺国产沉浸式光刻机

时间:2020-06-16 06:44来源: 作者:admin 点击: 3 次
IT之家6月10日消息 界面新闻报道,近期,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机将从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。       

IT之家6 月 10 日消息  界面新闻报道,近期,上海微电子装备 (集团)股份有限公司披露,将在 2021-2022 年交付第一台 28nm 工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机将从此前的 90nm 工艺一举突破到 28nm 工艺。

               

IT之家了解到,上海微电子装备 (集团)股份有限公司 (简称 SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造领域。 

目前上海微电子光刻机产品包括 IC 前道制造 SSX600 系列光刻机;IC 后道先进封装 SSB500 系列光刻机; LED、MEMS、Power Devices 制造 SSB300 系列光刻机; TFT 曝光 SSB200 系列光刻机。 

其中,SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于 8 寸线或 12 寸线的大规模工业生产。

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